台積電買進EUV光刻機，拉抬艾司摩爾成為半導體設備龍頭寶。（中時資料照）

　　本報訊／據中時電子報報道，台積電導入極紫外光（EUV）微影技術的強效版7奈米製程第2季量產，是史上量產速度最快的製程之一，由於台積電EUV設備向艾司摩爾（ASML）採購，因此拉抬艾司摩爾市場占有率，專家指出，美商應材公司（Applied　Materials）恐將2019年半導體設備龍頭寶座拱手讓給艾司摩爾。

　　ctimes報道，據市調機構調查，應材於2018年的半導體設備市占率為19.2%，2019年將小幅成長至19.4%，但仍較2015年的23%下滑3.6%；反觀在背後支撐台積電的「藏鏡人」艾司摩爾市占率從2018年18%，成長到2019年的21.6%。

　　市調專家Robert　Castellano指出，過去3年來，應材在晶圓前端製造（WFE）設備市占不斷下滑，今年恐將失去市場領頭羊地位，而艾司摩爾大量出貨高價的EUV光刻設備，　搶下市場占有率，並進一步踹掉應材成為全球最大半導體設備公司。

　　艾司摩爾EUV光刻機訂單在台積電加持下，第3季營運和毛利率符合預期，營收30億歐元，毛利率43.7%，淨利6.27億歐元淨利6.27億歐元，該公司預估，第4季營收將達39億歐元，季成長3成，毛利率約48%至49%，達到全年營運高峰。

　　荷蘭商艾司摩爾握著全球半導體進入下一個世代的鑰匙，在極紫外光（EUV）微影設備擁有獨家關鍵技術，獨占全球百分百市場，台積電和三星都是主要客戶。

　　（來源：中時電子報）